磁盘空间不足。 磁盘空间不足。 塑料真空镀膜设备促进真空镀膜产品的普遍使用

塑料真空镀膜设备促进真空镀膜产品的普遍使用

* 来源 : * 作者 : * 发表时间 : 2020-04-01 16:26:27 * 浏览 : 49
[文本]塑料真空镀膜设备的发展相当快。随着生产率的提高,生产成本大大降低,这为真空镀膜产品的普遍使用铺平了道路。以辊式真空镀膜机为例,首次显影时可镀膜的膜基材的宽度为0mm,目前已达到2253mm。基材辊的辊直径为1000mm,卷绕速度为750m / min。具有自动上下料功能的半连续辊式真空镀膜机的涂覆时间占整个周期的75%,辅助操作时间仅占25%。从大气到大气的更高效的卷对空真空镀膜机于1977年出售。随着测量技术,控制技术的发展以及电子计算机的应用,卷式真空镀膜机向着高水平的方向发展。自动化和高可靠性。辊式真空涂布机可以沉积的涂层厚度为0.01-0.2μm,可以在该范围内选择,一些可以涂布多层以满足各种需要。日本专利提出了一种用于沉积两种不同涂料的辊式蒸发装置。该设备的真空腔(6)分为上腔(7),左下腔(8)和右下腔(9)。在气相沉积过程中,从蒸发源(19、23)蒸发的两组涂料(21、25)沉积在塑料膜(11)上,并产生辉光放电发生器(,16)。发生器产生的辉光放电气体可防止塑料薄膜起皱。该设备可用于在极薄的塑料薄膜上涂覆无皱纹的多层薄膜,以制造磁带和薄膜太阳能电池。该装置的示意图如图1和图1所示。近年来,改进的辊式蒸发装置在高速​​和低温溅射方法中得到了迅速发展,使得可以沉积高熔点金属,例如铬,钛,钨和钼。已经使用了具有1400mm的涂覆室直径和2200mm的高度的大型钟型溅射涂覆机以及具有mm的长度和7.6mm的宽度的大型串联溅射涂覆机。近来,日本专利提出了一种辊式溅射涂布机,该涂布机可以涂布两种无方向性的涂料,并且在溅射区和第二溅射区之间安装温度控制装置以增强基板。材料的冷却确保了当涂层厚且沉积速度快时,基材不会收缩和变形。该设备如图1所示。真空室(1)配有溅射靶(4a,4b)和阳极(14a,14b)。将两个靶分别连接到直流电源(5a,5b),并溅射塑料薄膜(8)。辊(11a,11b,11c)有自己的冷却温度。
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